与大规模集成电路相比，由于体积小、空间有限、功能单一，用于实现光路由和光交换的光器件在应用中受到很大限制，因此在许多光通信模块中仍然需要大量的光转换。可见AD9248BCPZ-40光传感器，韩国GENICOM 可见光传感器 － GVGR－T10GD，芯片小于0．4mm，TO－46封装，使用的铟镓氮材料，含有PN型光电二极管，光伏模式操作，响应性高，暗电流低。
近年来，随着个人计算机的普及和互联网的快速发展，数字移动通信业务转向个人通信，引发了传统通信革命和多媒体通信业务的出现，刺激了光通信业务的快速发展。然而，与大规模集成电路相比，由于体积小、空间有限、功能单一，用于实现光路由和光交换的光器件在应用中受到很大限制，因此在许多光通信模块中仍然需要大量的光转换。
深紫外光刻技术在纳米光子设备制造中的应用大大降低了光学设备的尺寸，更多的光学设备可以集成在同一光子集成电路中。芯片上封装晶体管的传统工艺被称为“深紫外光刻”（DUV），它是一种类似于摄影的技术。透镜聚焦光线，在硅片上雕刻电路图案，利用极紫外线（EUV）光线雕刻在硅片上，使存储芯片具有类似的存储容量增加。
光刻技术在集成电路制造的推动下取得了长足的进步。从抽象的角度来看，光刻系统包括辐射源、辐射控制系统、光刻胶和样品。为了获得更小的光刻图形，需要使用光刻的光源具有更小的特征光波波长，光源必须具有足够的强度才能实现快速曝光和大规模生产。
目前，准分子激光广泛应用于工业上，以解决光刻强度的问题。在深紫外光谱中，准分子激光是最亮的光源。普通准分子激光获得的光波波长为248nm、193nm、157nm。准分子激光以多模式强烈发射，空间相关性相对较弱，光刻精度可达100nm以下。
为了保证紫外线雕刻机发出的紫外线强度适中，有必要对紫外线进行监测。紫外线传感器和紫外线光电二极管是可以检测紫外线强度的组件，可以用来检测紫外线雕刻过程中的紫外线能量。工业网络技术工程师推荐以下模型:
韩国GENICOM 紫外线传感器 － GUVA－T11GD－L，可见盲、光伏模式操作良好，响应性高，暗电流低，适用于全UV波段监测，UV－A灯监控，可广泛应用于：紫外强度检测与控制，UV指数检测。
德国SGLUX紫外光电二极管－ SG01D－C18具有极其特殊的优点，能承受高强度辐射，对可见光几乎不敏感，暗电流低，响应速度快，能在170℃的温度下长时间工作。
韩国GENICOM 可见光传感器 － GVGR－T10GD，芯片小于0．4mm，TO－46封装，使用的铟镓氮材料，含有PN型光电二极管，光伏模式操作，响应性高，暗电流低。