美国英伟达公司（NVIDIA）推出软件加速库cuLitho，可将光刻技术中的计算光刻工序提速40倍。计算光刻是芯片光刻中制作光掩模的技术。掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光可将图案转移到光刻胶层上。英伟达表示，此前计算光刻依赖于CPU服务器集群，而cuLitho在GPU上运行，比目前的光刻（在硅片上创建图案的过程）实现了高达40倍的性能飞跃，加速了目前每年消耗数百亿CPU小时的巨大计算工作量。
cuLitho使500个人工智能基础平台NVIDIA DGX H100（包含4000颗Hopper GPU）能够实现40000个CPU运算系统的工作量，并行运行计算光刻过程的所有部分，并有助于减少电源需求和潜在的环境影响。在短期内，使用cuLitho的晶圆厂可以每天使用当前配置的九分之一功率生产3-5倍的光掩模。一个过去需要两周时间的光掩模现在可以在一夜之间进行处理。
台积电和新思科技（Synopsys）正在将NVIDIA cuLitho软件库集成到最新一代NVIDIA Hopper架构GPU的软件、制造流程和系统中。设备制造商ASML正在与NVIDIA就GPU和cuLitho进行密切合作，并计划将支持GPU集成到其所有计算光刻软件产品中。
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