带位置测量的直流电机称为伺服电机。直流伺服电机的典型特点是操作平稳、无振动，速度范围广，低速时转矩大。为了以最佳方式利用这些特性，带比例-积分-微分控制(PID)以及合适滤波器的电机控制器必不可少。伺服电机的优点不胜枚举：动态性好、快速寻址、低速时转矩大、发热少、振动小。
直流伺服电机需要高达12V的直流工作电压。电机的旋转速度与电压成正比;前缀决定方向。可重复定位需要一个额外的测量系统。
PI可提供带高效ActiveDrive直流伺服电机、步进电机或直流齿轮电机的LS-110直线工作台。
无刷直流电机
PI正越来越多地使用电子换向无刷直流电机，优化的空心轴或转矩电机可实现较大的转矩。同时，由于驱动轴位于电机内部，对于相同的行程范围，驱动机构可以做得更短。
ActiveDrive直流电机
作为直流电机变体的带集成式Active Drive放大器的M-406精密线性平台
直流电机驱动器的优点多多，包括较大控制范围内动态性能良好、低转速下转矩高、散热少以及高位置分辨率时振动小。然而，高性能线性放大器的成本通常比步进电机高。通过在电机壳中集成PWM(脉冲宽度调制)伺服放大器，ActiveDrive系统可显著降低成本。标准配置中的单独电源为ActiveDrive电机提供24V的标准工作电压。ActiveDrive理念有如下几个优点：
消除放大器和电机之间的功率损耗后，效率更高
由于无需外部驱动器和布线，成本降低、系统更紧凑、可靠性更高
在单个屏蔽罩中将放大器和电机安装在一起可消除噪声辐射
步进电机驱动器
不同于直流电机，步进电机在每一转中仅占据离散位置。由于这些步进的距离恒定，利用步数就可控制位置，而无需位置传感器。通常情况下，每一转中有200至1000整步。实际实现的步长由步进电机控制装置决定，根据不同的版本，控制装置可在整步间电子插入多达几十万微步。PI使用的是运行稳定的两相步进电机。步进电机的使用寿命长，且与直流电机相比，其十分适用于动态性低或真空中的应用。电机轴上的机械阻尼器，也可用作手轮，可确保运行的平稳性。为了保持某一位置，不带自锁减速齿轮的步进电机需要持续通电，这可能在步进之间造成位置抖动，产生热量。
受控步进电机平台
系统控制器(SMC)步进电机控制装置的控制技术确保电机能十分平稳地运行，从而带来极高的位置分辨率、平稳的进给以及速度和加速度较大的动态范围。系统管理控制器效率很高，可避免电机发热。系统管理控制器是基于带高分辨率放大器的32位处理器，放大器的位置分辨率可低至纳米范围。通过与精密机械系统结合，可实现小于1μm/s的匀速进给。正弦2曲线图，而不是线性加速度分布图，可被选用来实现平稳的加速期和减速期。若需长期稳定定位，系统控制器步进电机控制器可评估位置测量系统，并实现精确控制。对模拟量1V峰间值的处理可实现对位置十分精确且无限的设置，并不受比特控制的数字转换的限制。 从单通道紧凑装置到19"外壳中的多轴控制装置，系统管理控制器有多个不同版本。
100nm步进
25nm步进
图1展示的是配备不带额外位置反馈的两相步进电机的PLS-85线性平台的100nm步进。平台执行这些步进的精度很高。控制25nm步进时(见图2)，各步的差异更大。平均来说，偏差仅为±5nm。
位置控制
图3：LS-110使用两相步进电机，传感器信号峰-峰值为1V，步进量50纳米
通过利用位置控制，小步的位置行为可进一步改善，尤其是在高分辨率传感器的模拟输出信号被用于处理时。系统管理控制器可处理低至2nm的传感器分辨率，位置分辨率此时仅取决于传感器。然而，环境影响不容忽视：环境温度仅0.01°C的变化就足以造成平台约10nm的热致膨胀。必要时，可使用超精密平台或专门开发的平台，如带花岗岩基座及相应高分辨率线性编码器的平台。图3展示了测量到的配备线性编码器的LS-110平台的最小增量运动。通过精确分离的各步，可清晰看到50nm的分辨率。负载的平稳变化不会影响该精度。
速度控制
图4：带受控两相步进电机的PLS-85，速度 100nm/s
速度，通常指的是最大可实现的速度，是选择定位系统的一个决定性参数，但有些应用中却要求十分缓慢且平稳的进给运动。这对于步进电机和直流电机都是一大挑战。系统管理控制器的速度控制可保证平台速度在<< 1 µm/s的范围内达到完美的稳定性。图4列出了配备分辨率为10nm的集成式线性编码器的PLS-85平台的测量结果。速度设为100nm/s，相当于360µm/h或大约10mm/d的进给。运动非常平稳。由于干涉仪的分辨率为5nm，每一步都在此单独列出。
无校正
有校正
导向装置和驱动装置的质量通常会对可实现的定位精度有所限制，例如，主轴间距的非线性将导致被控制位置的偏差。有些应用中，改善绝对定位精度十分重要，而双向可重复性则无关紧要。系统管理控制器中的错误校正保存测量到的偏差，然后相应地校正目标位置。图5展示的是LS-180在100nm的行程范围内目标位置与实际位置之间32µm的位置偏差。测量包括运动的两个方向;平均双向可重复性为1.78µm。从图6中可看到结果：偏差显著减小，仅约为±1.5µm。可重复性可通过利用位置控制进行进一步改善。