Cubic 四方光电 GasTDL-3100 过程气体分析仪

Cubic 四方光电 GasTDL-3100 原位激光过程气体分析仪(对射式)

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GasTDL-3100原位激光过程气体分析仪是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术(TDLAS)的高性能光学分析仪器,采用对射式设计,可用于工业过程气体控制;其响应时间快速,在原位式测量中一般以秒计算,避免采样式测量带来的时间延迟,可在线及时的反应被测气体浓度。


  • 采用TDLAS技术,被测气体不受背景气体交叉干扰
  • 原位安装,无需采样预处理系统
  • 响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度
  • 实时在线测量,气体浓度不易失真,测量精度高
  • 在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性
  • 隔爆防爆设计,安全系数高
  • 构造简洁,无可动元件,无损耗元件,免维护

GasTDL-3100原位激光过程气体分析仪是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术(TDLAS)的高性能光学分析仪器,采用对射式设计,可用于工业过程气体控制;其响应时间快速,在原位式测量中一般以秒计算,避免采样式测量带来的时间延迟,可在线及时的反应被测气体浓度。



技术参数


规格项参数值
性能参数性能参数
输出模式3路继电器输出
重复性≤±1%
量程漂移≤±1%F.S.
安装方式原位安装
工作电源24V DC,24W
测试范围CH4:(0 ~ 20)%VOL
测量原理TDLAS
精度≤±1%F.S.
通讯RS485、RS232
防爆等级Ex d IIC T6 Gb
响应时间T90≤1s
接口信号接口信号
工作参数工作参数
测量组分H2S、O2、CO、CO2、CH4*
环境温度(-20~ +60)℃
分辨率0.01%VOL
吹扫气体(0.3~ 0.8)MPa工业氮气


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