ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在，而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎，无奈一些关键细节上被美国卡死。
中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机，特别是 EUV (极紫外光源)光刻机，不过ASML对这个机器是不放行的，主要是美国强制要求。
EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，由于采用了极紫外线，它的最小工业节点到了 22nm-7nm，可以说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备，只有ASML能造出来。
2018年4月，中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机，价值1.2亿美元(约合人民币8亿元)，预计2019年年初交货。后来此事被报道后，ASML回应称，对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁，且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时，荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。
不过，最终这个交易也没有形成，根据知情人士的说法，美国立即盯上了这笔交易——接下来的几个月里，美方官员至少四次与荷兰官员开会，讨论可否直接封杀这笔交易。
此后，关于 EUV 光刻机向中国出口，ASML 的说法一直是：公司仍在等待新许可证申请的批准。
在这之前，ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况，其表示一些情况下，出口光刻机是不需要许可证的。
Roger Dassen指出，ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释，当然也知道这些与特定的中国客户密切相关，但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户)，则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，且无需出口许可证。
美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。
EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有ASML的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。