5月24-26日，SNEC 2023第十六届国际太阳能光伏与智慧能源（上海）大会暨展览会在上海新国际博览中心隆重开展。持续三天的展会上，理想晶延携新一代大尺寸高效TOPCON电池扩散+镀膜解决方案，以及HJT电池、钙钛矿电池镀膜等新产品精彩亮相。
01
ALD设备五代机，全新升级
理想晶延ALD设备采用国际前沿的空间型原子层沉积真空镀膜工艺技术，对TOPCON电池正面金字塔结构完美包覆，平板式沉积氧化铝薄膜钝化性能出色，lifetime、J0、PL强度均匀性等指标优异。2023年推出的ALD设备五代机产能可提升130%以上，并大幅度缩短保养周期，将再一次掀起行业提产降本风暴。
02
大产能双排舟管式低压扩散及退火设备，创新扩产
设备针对TOPCON电池磷扩散及SE后退火/退火采用双排短舟、一管双舟的创新设计，主动降温功能，可在不更改工艺参数下缩短生产时间，进一步提升设备产能。值得一提的是，双排舟产品喜获《TaiyangNews》杂志作为最新一期封面刊登。
03
PECVD-Poly Si设备，优化方案
设备采用自主研发的反应腔及进口射频电源，通过补偿电流的方式攻克了石墨舟电阻变化导致膜厚度不一致的难点。单独进行的隧穿层制备，避免了等离子体对隧穿层和Poly影响，高度保障电池光电转换效率。
04
HJT电池TCO镀膜、钙钛矿电池镀膜设备，重磅发布
针对行业热点HJT电池，理想晶延采用LPCVD沉积ZnO，工艺成熟、成本低、产能高。
同时，理想晶延发布了钙钛矿电池从实验室设备到GW级量产机台的完整SALD系列产品，旋转式和平板式ALD工艺沉积电子传输层（ETL）SnOx，大面积镀膜均匀性好、包覆性好，对钙钛矿层无损伤，将有效助推钙钛矿电池规模化量产。
降本增效是光伏产业永恒追求，而技术创新是光伏度电成本下降的第一动力。理想晶延作为行业镀膜设备领军企业，近年来凭借“国家特聘技术专家”领衔的研发团队，深耕空间域原子层沉积镀膜技术，ALD设备产品持续为行业发展注入强劲科技力量。