据外媒报道，俄罗斯第一台光刻机已经制造并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）据说，作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，第一台国产光刻机已经组装制造，目前正在测试中，该设备可以保证350nm芯片的生产。什帕克还指出，到2026年，国产光刻机将获得130nm，下一步将是开发90nm光刻机，并继续向下迈进。 此前，俄罗斯表示，计划到2026年实现65nm芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片制造，到2030年实现14nm国产芯片制造。
