基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片设计
姜保,侍南,吴炫烨,徐屹峰
上海大学,上海微技术工业研究院,上海大学转换医学研究院
2024-08-22
纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UVNIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用传统光刻工艺,制造了3种用于纳米孔测序的MEMS双层结构的硅晶圆。这些硅晶圆被用作母板,将其MEMS结构图案精准复制到聚二甲基硅氧烷(PDMS)上,形成压印软模,再用UVNIL工艺在硅基底上压印出所需的MEMS结构。最后,通过光学和电学两种测试表征手段,成功证实UVNIL工艺在制造MEMS芯片方面的有效性和可行性。相较于传统光刻,UVNIL的成功运用将极大提高工艺稳定性并大幅缩减成本。
  • MEMS芯片
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年份: 2024年
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内容目录
  • 引 言

  • 1、原理与实验

    • 1.1 仪器与设备

    • 1.2 MEMS结构版图设计与UVNIL工艺流程

      • 1.21 MEMS结构版图设计

      • 1.22 UVNIL工艺流程

    • 1.3 DPhPC双分子薄膜构建

  • 2、结果与讨论

    • 2.1 成膜测试

    • 2.2 光学测试分析

    • 2.3 电学测试分析

  • 3、结论

核心点推荐
  • 纳米孔
  • 基因测序
  • 紫外纳米压印光刻